Corporate
Profile

Failed to register as Favorite Page
Failed to cancel as Favorite Page
This page is already registered as a Favorite Page
You can't add your company to your favorites.

Latest update: 04/07/2022 10:26:44
法人番号:2020001130115

つばさ真空理研株式会社

独自の真空蒸着技術でお客様の問題を解決します。

長年にわたる半導体分野においてドライエッチング装置の部品をフッ素プラズマから保護する真空蒸着技術を確立しました。これによりドライエッチング装置の稼働時間の向上、生産歩留まりの向上、メンテナンスコストの改善が見込まれます。

Inquiry
Main image

Sales Pitch

フッ素プラズマ耐食性に優れ、パーティクルの低減に大きく貢献
10μm厚の酸化イットリウム膜
原子レベルで非常に緻密な膜ができます。イオンアシスト蒸着法による厚膜は、スパッタ法による膜よりアドバンテージがあり、ドライエッチング装置の部品の保護膜として最適です。
酸フッ化イットリウム膜
原子レベルで非常に緻密な膜ができます。イオンアシスト蒸着法による厚膜は、スパッタ法による膜よりアドバンテージがあり、ドライエッチング装置の部品の保護膜として最適です。また、エージング時間を短縮できるので生産性向上に寄与します。
アルミナ基板、アルミ基板、石英基板に成膜できます!
基板の熱膨張係数との兼ね合いから、下地層、応力緩和層を追加。最適な成膜ソリューションを持っています。

Catalogue/Pamphlet/Proposed

Y2O3成膜_product_brochure.改.pdf

Other presentation

【事業内容・特長】
当社は長年にわたる半導体業界での経験を活かし、独自の真空蒸着技術でY2O3の成膜をエッチング装置のRFウィンドウに行い、耐食性保護膜としてエッチング装置のダウンタイム削減や微細化に伴う発生パーティクルの低減要求に応えてお客様の生産性向上に貢献してきました。エッチング装置のRFウィンドウの耐プラズマ保護膜だけでなく、ポスト5Gの高周波プリント基板への成膜、ジェットエンジン部品に使用されているイットリウム安定化ジルコニアへの応用、精密金型の超硬質・高密着な厚膜による離型性向上、光学レンズへの応用、義歯へのコーティングなど様々な用途に検討がなされています。Y2O3を真空蒸着でアルミナ基板上では25μm、石英ガラス上に10μmの緻密性の高い高硬度で基板との密着性が高く、耐熱性、高屈折率の厚膜が成膜できています。高融点金属酸化膜の良い成膜をお探しの方は是非、ご相談ください。

【主要製品・技術・商品・サービスの概要・活用事例】
エッチング装置のRFウィンドウの耐プラズマ保護膜は韓国の大手半導体メーカーがすでに採用しています。エッチング装置のRFウィンドウの耐プラズマ保護膜だけでなく、ポスト5Gの高周波プリント基板への成膜、ジェットエンジン部品に使用されているイットリウム安定化ジルコニアへの応用、精密金型の超硬質・高密着な厚膜による離型性向上、光学レンズへの応用、義歯へのコーティングなど様々な用途に検討がなされています。

【代表者メッセージ(今後の販路開拓に向けた取り組み、ジェグテックの活用意向等)】
現在、当社は開発したY2O3の独自真空蒸着技術による成膜を国内・海外に向けて事業展開を計画しています。半導体のみならず、他業界への用途展開も考えており、市場開拓営業や成膜の製造委託先も探していますのでジェグテックのビジネスマッチングを活用していきたいと考えています。

SDG Actions

つくる責任 つかう責任
海の豊かさを守ろう
Inquiry

Similar Companies

We could not find a match or similar companies per your request.