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Latest update： 08/01/2020 11:56:32
法人番号：1040001034298

株式会社シー・ヴィ・リサーチ

半導体に携わるお客様の様々なシーズ（種）を具現化いたします。

「CVR-9300 Series」、「CVR-9000 Series」などの高密度プラズマを用いた半導体製造装置の開発および製造、販売を行っております。その他、表面処理や成膜などのサービスも手掛けています。

半導体製造装置

CVR-9300 Series

φ12″（300mm）ウェハーに対応したプラットフォーム
大口径ウェハーに対応したプロセスリアクター

CVR-9000 Series

φ5″ – φ8″ ウェハーに対応したプラットフォーム
高密度・均一なプラズマにより安定した処理が可能

CVR-3000 SR

φ6″ – φ12″ ウェハー ・ 152mm角マスクに対応したシングルプラットフォーム
ロードロックを持たないシンプルな構造
設置面積が最小でコストパフォーマンスが高い

CVR-3000 WD

φ12″ ウェハーに対応した、Dry & Wetのコンビネーションプラットホーム
レジストアッシングからウェットRCA洗浄が可能です。
また、クロスコンタミネーションを意識した、裏面洗浄も可能にいたしました。

サービス

表面処理サービス

処理サイズ　：　φ6 – φ8 インチWafer への表面処理サービス
			※φ8インチSiトレイの使用によりチップ処理対応可能
			※一部φ300mmm Wafer 対応
処理内容　：　酸化 ・ 窒化 ・Ashing

成膜サービス

処理サイズ　：　φ6 – φ8 インチWafer への成膜サービス
			※φ8インチSiトレイの使用によりチップ処理対応可能
膜種　：　TaO ・AlO ・SiO ・SiN
膜厚　：　1nm ～ 1000nm 程 （条件により異なります）