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Latest update: 11/05/2021 01:15:43
法人番号:5120901022225
ノベリオンシステムズ株式会社
斬新なプラズマ技術で未来を拓く
プラズマを用いた表面改質装置や微細加工装置、高密度かつ低不純物のプラズマ発生装置を開発。高度な運転技術を要さない「アタッチメント型ECRプラズマ源」は、接ガス部に消耗する部品を持たず、高密度のプラズマが滞留なく拡散するため、大型真空容器の空きポートに取り付けるだけで大規模処理装置を構成することが可能です。
【製品説明】 【特長】 ・独創的な磁石構成による大容積ECR磁場。 ・強力な冷却システムによるkW級大電力動作。 ・メタルコンタミフリーの誘電体ライニング。 ・複数配置により大面積プラズマを実現するモジュールコンセプト。 【装置仕様】 ・接続真空ポート口径 :Φ120 ㎜ ・接続導波管規格 :WR340 ・適合マイクロ波周波数 :2.45 GHz ・許容マイクロ波電力 :最大2,000 W ・冷却方式 :水冷 【応用例】 ・ドライエッチング装置やアッシング装置のソースパワーとして。 ・反応性イオンビーム加工装置(RIBE)のイオン源として。 ・イオン窒化・酸化装置やDLC成膜装置のプラズマソースとして。 【知的財産】 出願番号:特願2014-28950
【製品説明】 【特長】 ・独創的な磁石構成による大容積ECR磁場。 ・取り扱いが容易な同軸ケーブル給電。 ・メタルコンタミフリーの誘電体ライニング。 ・複数配置により大面積プラズマを実現する、モジュールコンセプト。 【装置仕様】 ・接続真空ポート口径 :Φ80 ㎜ ・同軸コネクタ規格 :N型 ・適合マイクロ波周波数 :2.45 GHz ・許容マイクロ波電力 :最大200 W ・冷却方式 :水冷 【応用例】 ・EPS-120と同様、各種プラズマ源として。
【製品説明】 【特長】 ・完全メタルシールにより超高真空装置に対応。 ・取り扱いが容易な同軸ケーブル給電。 ・メタルコンタミフリーの誘電体ライニング。 ・ラジカルビームの発生に優れた、バイアス電極付きの誘電体引出グリッド。 【装置仕様】 ・接続真空ポート規格 : ICF70 ・同軸コネクタ規格 : N型 ・適合マイクロ波周波数 : 2.45 GHz ・許容マイクロ波電力 : 最大 150 W ・冷却方式 : 水冷 【応用例】 ・MBE装置の窒素/酸素ラジカル源として。 ・表面クリーニングのための原子状水素源として。
【製品説明】 【特長】 ・荷電粒子シミュレーションにより、ビーム均一性を最適化。 ・耐熱・低スパッタ率電極材料の採用により、低エネルギーかつアンペア級のイオンビームを発生。 【装置仕様】 ・放電方式 : 多極磁場型・熱陰極DC放電(ECRプラズマ源の適用も可能) ・ビームサイズ : Φ350 ㎜ ・ビーム仕様 : 1keV × 2A 【応用例】 ・MEMS加工装置用イオン源として。