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最終更新日時: 2022/01/04 10:17:32
法人番号:2040002059153

有限会社渕田ナノ技研

最先端のナノ粒子成膜テクノロジーを提供します。

日本発のオリジナルなナノテク技術であるガスデポジション技術、エアロゾル化ガスデポジション技術など、ナノ粒子および微粒子のノズル噴射による膜形成技術の研究開発メーカーです。顧客の要求仕様に合わせナノ粒子を熟知した装置設計で、多くのナノ粒子関連の設備納入を行なっています。

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アピールポイント

エアロゾル化ガスデポジション装置(AGD)
セラミックスの常温成膜装置です。
微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作ります。巻き上げられた粒子は、ガスと共に搬送管を経て、ノズルより対向する基板へ噴射堆積されます。
ガス搬送過程において摩擦帯電されたセラミックス粒子の高速噴射により、緻密なナノ粒子構造膜が形成されます。
ガスデポジション装置(GD)
ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積されます。
活性なナノ粒子を膜形成に利用するために、低温成膜が可能です。
静電気誘導プラズマセラミックス常温成膜装置(EPD)
セラミックスの成膜装置です。
(現状、成膜処理で実績があるセラミックスは「アルミナ」「イットリア」「ジルコニア」です。)

【特徴・ポイント】
①常温での成膜が可能
②膜が薄くても高い絶縁性を担保している(アルミナ膜の場合)
③スパッタ法よりも成膜速度が速い(成膜速度は、スパッタ法の50倍)

カタログ・パンフレット・提案資料

有限会社渕田ナノ技研_NEDOマッチングスペース掲示資料.pdf

動画

【サポインエキスポ2018】 06有限会社渕田ナノ技研
更新日:2021/12/22
従来のEPD装置を改良し、静電気誘導の最適化を考慮した新たな静電誘導プラズマ成膜装置(ターゲット方式EPD)を開発しました。そしてこの装置を用いてアルミナ膜を形成し、その絶縁特性を評価したところ、ナノ粒子のみが緻密に結合したアルミナ膜の形成を可能とし、バルク体を超える良好な絶縁特性を得ました。また、比較するスパッタ法に比べ、桁違い(75倍)の成膜速度750nm/min(100㎜角)が得られました。ジルコニア系、イットリア系などの成膜例があります。

この企業は以下の支援機関から推薦されています

国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)
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