法人情報

【企業の強み】
新対向ターゲット式スパッタ「NFTS」装置は、お客様の使用目的、目的段階により基礎研究用、研究開発用、量産用をそれぞれ取り揃えております。また、大型プラズマ源の開発により、基礎研究用の小型装置から量産用の大型装置まで同じ原理を用いているため、一貫した成膜技術をお客様に提供することにより製品化にかかる時間の短縮にお役立ち致します。また、成膜する基板の種類、方法によりお客様のニーズに対応するため各種揃えております。探査研究から生産システム導入まで専門性の高いチームで迅速に対応いたします。

【事業内容】
弊社では、低温・低ダメージの新対向ターゲット式スパッタ（New Facing Targets Sputtering）「NFTS」を提供しております。
①NFTS装置の販売　②反射型透明断熱フィルムの販売　③NFTS装置を用いた研究開発支援サービス　④薄膜材料・MEMSデバイス研究開発支援サービス

【業種】
真空機器の設計、製造、販売

【製品・技術の強み】
弊社が提供する新対向ターゲット式スパッタ「NFTS」技術は高密度プラズマを箱型空間に拘束することにより、堆積基板への高エネルギー種（反跳粒子、イオン、電子）の衝撃によるダメージを抑制できる原理・構造を特徴とする成膜技術です。このNFTS技術により、これまでのスパッタ技術では困難とされていた低温・低ダメージで高品質な薄膜を形成することができ、かつ高い生産性を有する成膜技術となっています。また、NFTS技術により形成される薄膜は従来のスパッタ技術により形成される薄膜と比較し、粒子界面に空隙の少ない緻密な膜を形成することができます。

【代表者メッセージ】
次世代デバイス分野では酸化物薄膜、化合物酸化薄膜、原子オーダーのナノ多層薄膜を低温、高品質で経済的に実現する多くの課題が想定されるため、最もその解決に適したNFTSプラズマ源を組み込んだシステム開発には内外を問わず連携協力して産業社会の発展に貢献したいと考えております。

【販路開拓・海外展開に向けた社内体制】
当社は小規模であるため、インターネット主体による展開に特化し、アウトソーシング及び関連大手企業との連携により販路開拓を行っております。また、展示会などを通して、当社製品の認知度向上を図っております。

【シェア・ランク】
研究開発分野でCVDやマグネトロンスパッタの膜品質と生産性での課題対応技術として採用実績有り

【表彰・メディア掲載】
【表彰実績】
ベンチャーフェアJapan98　「審査委員会奨励賞」、三和ベンチャー育成基金、富士ニュービジネス育成基金、

【メディア記載】


【共同研究・開発実績】
平成20年12月 日本製鋼所株式会社とのNFTS量産装置共同開発、

【主要取引先:実績（国内）】
ホンダエンジニアリング・化合物太陽電池開発用NFTS装置、日産自動車・薄膜燃料電池開発用NFTS装置、村田製作所/日本ガイシ・次世代機能部品開発用NFTS装置、パナソニック・NFTSプラズマ源、etc

【主要取引先:実績（海外）】
サムソン電子・NFTSプラズマ源