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時代の主役は超微細パターン形成へ

ナノ、マイクロレベルの微細パターンを半導体プロセス（フォトリソグラフィー、ドライエッチング）を用いて形成します。更に大量生産においては、従来半導体プロセスやナノインプリントを用いなければ不可能とされていた微細パターンを射出成形を用いて可能とします。