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最終更新日時: 2022/09/08 18:16:20
法人番号:9021001018434
スミックス株式会社
マクロ光学検査を専門とする装置の開発・製造
マクロ光学検査を専門とする装置開発・製造・販売会社です。マクロ光学検査の有用性と可能性を半導体・液晶・NIL・その他各検査市場に提案して 検査工程の効率化を実現し、より効率的なコスト競争力のある検査工程を確立して頂けます。
アピールポイント
- 技術と製品
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当社のマクロ検査の特徴と技術
◆当社のマクロ検査の特徴 〇ワーク全体の傾向が一目で分かる → ミクロで確認すべき個所をピンポイントで確定 〇検査測定時間が非常に短い → サンプリングではなく全数検査が可能 〇対応出来るワークの種類が広い → 反射光が発生する物ならどんなものでも検査可能 ◆技術 〇そのコアとなる技術(OAS Technology)は、散乱光を利用したマクロ検査に特化した独自光学系を採用しています。 〇OAS光学系の特徴は以下になります。 ・エッジ反射光(パターンからのダイレクトな反射光)を利用する ・ミー散乱(半透明体からの指向性のある反射光)を利用する ・検査光源波長の最適化(ワークの特徴ごとに検査に必要な波長を最適化) ◆私たちのマクロ検査でできること 〇CDとの相関が高いマクロ検査が可能 〇3nmのサイズ変化をマクロ的に捉えることが可能 〇鏡面のウェハーの凸凹を可視化する 〇凹凸のある金属面の傷・打痕を検査する
マクロ画像実例
OASテクノロジーにより、様々なサンプルについて評価を行っています。その中でほんの一部になりますが、マクロでこの様な観察が出来ると言う点をご紹介します。 ◆マクロでナノ ピクセルサイズ20μmで10nmの段差を捉えます。従来マクロ的に捉える事が難しかった結晶欠陥も、弊社のマクロ技術ならナノレベルまで可視化することが可能です。量産工程導入実績があります。さらに目視では全くの鏡面であるウェハー表面も、本光学系と独自開発の可視化フィルターを用いれば、ナノオーダーでウェハー(PW)表面の凹凸が可視化出来ます。 ◆線幅と高い相関 SEMで1Chip 400ポイント 2時間かけて測定する代わりにマクロでさっとスキャン20秒でウェハー全チップの線幅が管理できます。2006年2月、SPIEにて発表した時のDATAでは、CD(クリティカル ディメンジョン)と画像輝度との高い相関を実現しました。 ◆NIL工程管理に最適 ナノインプリント量産工程では、テンプレートや転写後ワークの管理必須です。 OAS1マクロテクノロジーなら管理したい見たいムラの最適観察条件を簡単に抽出。テンプレートや転写されたワークの状態が一目瞭然です。
この企業は以下の支援機関から推薦されています
- 中小機構 関東本部