法人情報

【企業の強み】
当社の強みは、次の2点となります。まず、高度な電磁界シミュレーションおよび計測環境を整え、部品一品一品まで最適化し、極めて強力かつコンパクトなプラズマ源に仕上げていることです。そして、当社協力工場にて精密加工された全ての部品は、当社の清浄な環境で組み立てられ、高い品質を保っていることとなります。その結果、当社の製品は国立研究所や大手半導体製造装置メーカーに、ご採用いただいております。

【事業内容】
当社主力事業は、プラズマを用いた表面改質装置や微細加工装置向けに、高密度かつ低不純物のプラズマ発生装置の開発です。この度、ユーザー様に高度な運転技術やノウハウを求めない【モジュール型ECRプラズマ源】を実用化しました。また、【モジュール型ECRプラズマ源】を適用した各種プラズマ装置もオーダーメイドいたします。

【業種】
真空機器製造

【製品・技術の強み】
当社の【モジュール型ECRプラズマ源】は、接ガス部に消耗する部品を持たず、酸素やハロゲン等の活性雰囲気においても半永久的に動作させることが可能です。また、この【モジュール型ECRプラズマ源】からは高密度のプラズマが滞留なく拡散しますので、大型真空容器の空きポートに取り付けるだけで、容易に大規模処理装置を構成することが可能です。現在は、半導体製造装置分野をはじめ微細加工分野や粒子線治療分野から、様々なお引き合いをいただいております。

【代表者メッセージ】
半導体開発技術者として独立し、同志社大学との産学連携を通じて、オリジナル技術の開発に集中してきました。その成果として、【モジュール型ECRプラズマ源】を世に問い、次世代の半導体プロセスや表面改質の開発に貢献していく所存です。技術開発のパートナーとしての価値を発揮していきます。

【販路開拓・海外展開に向けた社内体制】
真空装置や半導体プロセス装置を熟知し、納入実績もあるサプライネットワークを構築済みであり、国内外のお客様のご要求に対応いたします

【表彰・メディア掲載】
【表彰実績】
平成19年度〈池銀〉ニュービジネス助成金・地域起こし奨励賞

【メディア記載】
半導体産業新聞(2007.08.15)

【共同研究・開発実績】
独立行政法人日本原子力研究開発機構、同志社大学他

【取引形態】
試作開発受注、OEM契約、製品販売

【主要取引先:実績（国内）】
大手金属加工メーカー（受託加工、2009-現在）、大手半導体製造装置メーカー（受託設計、2008-現在）