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Latest update: 27/04/2017 14:02:21
法人番号:7012401018167

気相成長株式会社

世界のどこにも売っていない原料を開発できる研究開発型企業

さまざまな物質の薄膜を形成する蒸着法「化学気相成長」に関する技術に自信を持つ。原料、プロセスのスクリーニングから高精度の成膜まで一連の流れで短期間に実験が終結できる新たな化学気相成長装置の研究開発などのほか、新たな化学気相成長用の原料開発を手がけており、世界のどこにも売っていない原料も開発できる。大学、研究機関とのつながりも太く、新規プロセス開発の人脈もある。社員の2/3が博士号を取得している。

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Other presentation

【企業の強み】
長年の合成の経験から、世界のどこにも売っていない原料を開発する事ができます。化学気相成長技術の知見が深く、装置に反映させることができます。装置をゼロから試行錯誤で作り上げてきたノウハウを持つことが強みです。大学、研究機関との関係が強く、新規プロセス開発の人脈も太い点も強みです。社員の2/3が博士号を取得し高い成膜技術を保有し常に先端分野に係っています。突出したアイデアによる特許取得を強みとしています。一般的に別会社で行われる原料開発とプロセス開発を社内で平行して行う事ができる。

【業種】
ファインケミカル・化学工業・研究開発

【製品・技術の強み】
研究者の実験ニーズに合わせた開発原料の販売が可能です。装置をゼロから試行錯誤しながら作り上げてきたノウハウを持つことが強みです。従来の実験機メーカーの装置は改造困難なケースが多いのですが、我々の経験に基づいた装置は、原料特性に合わせた設計に優れており、ユーザーの要求にこたえる改造が可能です。顧客先で起きた成膜での不具合の解消方法を見つけることが可能で、その他コンサルタントも個なう事ができる。通常は困難な原料の分析が可能です。反応解析に必要な特殊CVD装置と重水素化原料が強み。

【代表者メッセージ】
弊社の高い技術はまだまだ知れ渡っていないので、これを知っていただく事によって多大なる販路開拓を進めたい。弊社は営業部がなく営業専属の社員もいないため現状ではホームページと代表者の限られた人脈、および商社頼りの面が大きいのでもっと効果的な販路開拓を行いたい。このまま研究者の要求に応えられるCVD原料メーカー、特許戦略がすばやいメーカーがなくなってしまうと、日本の半導体、MEMS、ファイン工業の基礎が衰退していくので一刻もはやく多くの研究者に認知されるため販路拡大を進める。海外でも最高の技術水準を保有するので既存の製品ではない新規高機能製品の展開を行っていく。

【販路開拓・海外展開に向けた社内体制】
ホームページでの宣伝、および学会関係を通じた人脈の活用。大手企業に理解されるべく可能な限り高い技術商談を行い、相手先に技術面で充分満足される仕上がりを目指す。海外展開は、海外に展開している国内企業を通じての拡販を重視。自社ホームページへの訪問確立を高めるための検索網の検討を常時行っている。

【シェア・ランク】
CVD原料DiPPAシリーズ:国内海外100%、Geエピ用原料:国内海外85%、重水素化CVD原料:国内海外100%、温度勾配CVD装置:国内海外100%、超臨界堆積用DiPPA銅:100%

【表彰・メディア掲載】
【表彰実績】


【メディア記載】
化学工業日報「ファイン企業群探訪」2012年2月21日

【証明・許認可】
中小企業ものづくり基盤技術の高度化

【共同研究・開発実績】
豊田工業大学(化合物半導体の研究、2008-現在)、明治大学(CVD-Geエピの研究、2012?現在)、東京大学(次世代メモリの開発、2008-2010)、北見工業大学(太陽電池用薄膜の研究、2018-現在)、山梨大学(銅配線作製新規プロセスの研究、2013-現在)

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中小機構 関東本部
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